Sputtering: uma técnica para produção de nanotecnologia

Adolfo Melo
28/12/2017

Esquema básico do processo de sputtering. Um gás inerte (argônio), ao entrar na câmara evacuada, é ionizado (Ar+) e acelerado contra o alvo. Átomos do alvo são ejetados e depositados no substrato. [1]
Quando falamos em nanotecnologia, uma das primeiras coisas que temos de ter em mente é a capacidade na qual a humanidade já alcançou em produzir Continuar lendo Sputtering: uma técnica para produção de nanotecnologia